点击图片查看大图
宝鸡市弘鼎金属材料有限公司
表面工程用靶材（装饰工具）多弧靶
|
品 名
|
纯度
|
密度
|
镀膜优势色
|
形状
|
常规尺寸
|
应用行业
|
|
钛铝（TiAl）合金靶
|
2N8-4N
|
3.6-4.2
|
玫瑰金/咖啡色
|
圆柱形
|
直 径
60/65/95/100*30/32/40/45mm
|
装
饰
/
工
具
|
|
纯铬（Cr）靶
|
2N7-4N
|
7.19
|
白色/黑色
|
圆柱形
|
||
|
纯钛（Ti）靶）
|
2N8-4N
|
4.51
|
金黄色/枪黑色
蓝色/玫瑰红
|
圆柱形
|
||
|
纯锆（Zr）靶
|
2N5-4N
|
6.5
|
金色
|
圆柱形
|
||
|
纯铝（Al））靶
|
4N-5N
|
2.7
|
银色
|
圆柱形
|
||
|
纯镍（Ni）靶
|
3N-4N
|
8.9
|
金属本色
|
圆柱形
|
||
|
镍钒（Ni）靶
|
3N
|
8.57
|
蓝绿色
|
圆柱形
|
||
|
纯铌（Nb）靶
|
3N
|
8.57
|
白色
|
圆柱形
|
||
|
纯钽（Ta）靶
|
3N5
|
16.4
|
黑色/紫色
|
圆柱形
|
||
|
纯钼（Mo）靶
|
3N5
|
10.2
|
黑色
|
圆柱形
|
靶材的主要性能要求
靶材的主要性能要求:
纯度
纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”, 8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。
杂质含量
靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。
密度
为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率，还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。