1，氧化铝抛光液（VK-L30W）在陶瓷材料、人工晶体及半导体行业的抛光
随着新型功能陶瓷材料、人工晶体及半导体行业的迅速发展，对产品的加工精度提出了越来越高的要求，超精密加工的精度从20世纪60年代的微米级提高到80年代的0.01μm，再发展到目前的纳米级(最高可达到原子级)。纳米氧化铝抛光液（VK-L30W）在日本和欧美已在一定范围内得到了应用，据报道，用纳米氧化铝制成的抛光液成功地用于表面光洁度要求极高的X射线反射镜和半导体硅片的加工。
2，纳米氧化铝抛光粉（VK-L30F）在不锈钢上的抛光
不锈钢抛光膏，以纳米氧化铝（VK-L30F）作为主要原料，其颗粒分散均匀，不团聚，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷，且化学作用适度，对fu蚀控制有效，通过严格控制粒径、改善粒子表面活性和利用化学增强抛光，具有高速且稳定抛光效率，提高抛光速度，改善抛光表面的质量等优点，应用于各类不锈钢抛光。
3，纳米二氧化硅抛光粉（VK-SP30F）在玉石的抛光应用
第一步：上膏，将雕好的翡翠的表面涂上一层膏状的研磨膏，绿色的为氧化铬橙红色的为氧化铈（VK-Ce01）．
第二步：推磨，用砂轮磨表面．
第三步：重复前两步，一般要重复二次．
第四步：上毛刷，将研磨膏或钻石粉涂在翡翠的表面然后用硬毛刷或硬毛磨头来抛．
第五步：细工，开始对大工具抛不到的小地方来抛磨．用竹子，沾研磨膏，钻石粉，大一点用钨钢旋转锉雕刻，小的地方就要用到合金磨头．
第六步：精抛，将翡翠涂上纳米二氧化硅抛光粉（VK-SP30F）或钻石粉后用硬皮来抛磨，国内大多用牛皮，缅甸大多用象皮．
第七步：清洗，目的是将抛光好的翡翠上面残留的抛光粉清洗干净．主要用超声波机来清洗，清洗不到的地方再用酒精来擦．
第八步：上蜡，对翡翠成品表面一的种保护。
4，纳米氧化物在机械抛光上的应用：
机械抛光是靠切削，材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，一般使用油石条，羊毛轮，砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具，在含有磨料的研磨液（VK-SP30W）中抛，紧压在工件被加工的表面上，作高速旋转运动，利用该技术可以达到0.008um的表面粗糙度。
5，纳米氧化铝抛光液（VK-L30W）在化学机械抛光中的应用
化学机械抛光液的组成一般包括由超细固体粒子研磨剂（如纳米SiO2（VK-SP30F）、Al203（VK-L30F）粒子等）、表面活性剂、稳定剂、氧化剂等
固体粒子提供研磨作用，化学氧化剂提供腐蚀溶解作用由于SiO2粒子去除率
高，得到的表面质量好，因此在硅片抛光加工中主要采用SiO2抛光液。
6，纳米二氧化硅抛光液（VK-SP30W）在LED行业及半导体行业的应用
（1） LED行业：目前LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石，在加工中需要
对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度极高，普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的划痕。抛光液利用“软磨硬”的原理很好的实现了蓝宝石表面和砷化镓表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展，聚晶金刚石研磨液及二氧化硅抛光液（VK-SP30W）的需求也与日俱增。
（2）半导体行业：广泛应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI) 对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展，对抛光技术提出了新的要求，传统的抛光技术虽然也可以提供“光滑”的表面，但却都是局部平面化技术，不能做到全局平面化，而使用化学机械抛光机技
术解决了这个问题。
7，纳米氧化铝抛光粉（VK-L30F）在金相抛光上的应用
目前行业内通用的金相抛光粉的材质有三种：氧化铝，氧化铬，绿碳化硅。
氧化铝抛光粉以粒径为0.2-0.3um之间最好。
8，纳米氧化硅抛光液（VK-SP20W）在光学抛光上的应用
纳米氧化硅抛光液（VK-SP20W）经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品，广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。
如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。可生产不同粒度（10~150 nm）的产品满足用户需求。根据pH值的不同可分为酸性抛光液和碱性抛光液。
9，氧化铝抛光粉（VK-L30F）在石材上的应用
微粒研磨由以下几道工序组成：
①粗磨：要求磨具吃刀量深，磨削效率高，磨削的纹路粗，磨出的表面较粗糙，主要清除产品在前道工序中留有的锯片痕迹并将产品的平整度，造型面磨削到位；
②半细磨：将粗磨痕迹清除，形成新的较细的纹路，产品加工面平整、顺滑；
③细磨：细磨后的产品花纹、颗粒、颜色已清楚地显示出来，表面细腻、光滑，开始有微弱的光泽度；
④精磨：加工后的产品，无肉眼察觉的痕迹。表面越来越光滑，光泽度约40~50度左右；
⑤抛光：用纳米氧化铝抛光粉（VK-L30F）加工，表面明亮如镜，具有一定的镜面光泽度（95度以上）。
10，纳米氧化铈抛光液（VK-Ce01W）在光学抛光上的应用
纳米氧化铈抛光液（VK-Ce01W）平均粒径30nm,用于天然水晶、液晶显示屏、LED模块、ITO导电玻璃、高清晰度电视屏、光盘、各种棱镜和反射镜、照相机和各种望远镜、激光光电子、军事领域精密光学元件的抛光。